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治疗阿尔茨海默症的药物
成果领域:
推广方式:
成果归属企业: 深圳大学
成果鉴定时间:
成果介绍
本发明提供的调节ECR离子照射密度控制石墨烯纳晶碳膜生长的方法,利用ECR等离子体溅射系统,通过调节第三磁线圈的电流在0~48A范围内变化,利用过渡磁场模式对氩离子进行约束,结合一定的工作气压和微波功率,进而改变碳膜制备过程中的离子照射密度。对不同离子照射密度下制备的碳膜进行纳米压痕和纳米划痕测试,第三磁线圈的电流在0~48A范围变化时,离子照射密度能够实现在1.88~26.89mA/cm2范围内变化,受该范围离子照射密度影响的石墨烯纳晶碳膜,石墨烯纳晶的平均尺寸在0.66~1.19nm,硬度在6.45~14.63GPa,弹性模量在116.30~179.28GPa,摩擦系数在0.07~0.38,划痕深度在2.78~6.36nm,具有更好的力学和摩擦学特性。
成果应用案例介绍
材料制品>膜材>石墨烯纳米晶碳膜; 计算控制>控制方法>控制
联系方式
电话/微信: 13822630888
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