本发明适用于光学技术领域，提供了一种光场度量标定方法，包括：提供标定物，通过三维测量装置投射结构光的图案到标定物上，通过光场成像装置记录结构光的光场并获得相位编码场；通过三维测量装置重构空间物点的三维坐标，获得光场成像装置的物空间的度量深度；通过相位编码场计算空间物点在光场成像装置像空间的像点的深度剪切值，将深度剪切值与度量深度组成一组测量深度坐标；改变标定物的方位重复上述步骤，获得多组测量深度坐标，用于标定光场成像装置的物空间和像空间深度度量关系。基于该度量关系，可以由像空间的深度精确的确定物空间的深度，使得光场成像不仅具备像空间深度感知的功能，还具备了物空间中的深度测量的功能。