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高速制备高取向碳化硅
成果领域: 新材料
推广方式: 技术入股(股权合作)
成果鉴定时间:1970-01-01
成果介绍
高取向碳化硅材料具有优秀的热稳定性、耐酸碱腐蚀性、导热性、 中子吸收截面与力学性能,能够在极度条件下服役。该项目组已完成了 科技部与国内外多家企业针对高取向碳化硅的研发任务,成功以目前国 际上报道的最高速度(每小时 3600 微米)生产出直径 4 英寸、2 毫米厚 度的高取向碳化硅晶圆与 50 毫米高取向碳化硅管材,实现了关键基础材 料国产化。
成果应用案例介绍
高取向碳化硅具有的优异性能与在高新技术产业的巨大应用潜力。 例如:高取向碳化硅是制造第三代半导体的金属有机源化学气相沉积装 备中的重要内衬与支撑件材料。1 台设备 1 年就需要在碳化硅托盘上耗费 80 万元,我国每年仅在此单一工件上就耗费 160 亿元。此外,高取向碳 化硅材料还在超高速涂层刀具、光学窗口、航空航天、核防护领域市场 份额巨大,保守估计每年 2000 亿国内市场,500 亿海外市场。
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